InPower ドライベーン真空ポンプは、半導体業界でクリーンで乾燥した真空環境を作り出すために使用されます。そのクリーンさ、信頼性、効率性により、半導体業界で幅広い用途に使用されています。これらのポンプは、化学蒸着、物理蒸着、イオン注入、エッチングなどのプロセスに不可欠です。

特徴：

ドライベーン真空ポンプは、ドライスクリュー技術の利点と水冷を組み合わせて性能と効率性を高めたタイプの真空ポンプです。ドライ操作と効果的な放熱の両方を必要とする厳しい真空アプリケーションに、信頼性が高く、効率的で、メンテナンスの手間が少ないソリューションを提供します。

モデル:LGB30/50/70/110/150/180/200/220/270/300/360/400/500

到達真空度: 1Pa以下

速度 50 Hz:30-500 L/s

速度 60 Hz:36 - 600 L/s

モデル			LG30 30 円	LG50 50 ...	LG70 型番	LG110 型番	LGGB150 本体	LG180 本体	LGGB200 型番	LG220 型番	LGGB270 型番	LG300 型番	LG360 について	LGB400	LG500 型番
速度(50Hz)		L/s	30	50	83	110	150	180	200	230	270	300	360	360	500
速度(50Hz)		m³/h	110	180	300	400	540	650	720	830	970	1080	1300	1500	1800
究極の真空（50Hz）		パ	5	5	5	5	5	5	5	5	5	5	5	5	5
最大排気圧力		バー	1.2	1.2	1.2	1.2	1.2	1.2	1.5	1.2	1.2	1.2	1.2	1.2	1.2
電源(50Hz)		クォ	4	4	5.5/7.5	11	15	15	18.5	18.5	22	30	37	37	37
モーター速度(50Hz)		回転数	2880	2880	2880	2880	2880	2880	2880	2880	2880	2880	2880	2880	2880
接続する	で	んん	50	50	65	65	100	100	150	150	150	150	150	150	150
接続する	外	んん	40	40	65	65	80	80	100	100	100	100	100	100	100
水	流れ	L/分	6	6	10	15	20	20	25	25	28	28	28	28	28
	プレッシャー	MPa	0.2-0.35	0.2-0.35	0.2-0.35	0.2-0.35	0.2-0.35	0.2-0.35	0.2-0.35	0.2-0.35	0.2-0.35	0.2-0.35	0.2-0.35	0.2-0.35	0.2-0.35
	接続する		G3/8"	G1/2"	G1/2"	G1/2"	G1/2"	G1/2"	G1/2"	G1/2"	G1/2"	G1/2"	G1/2"	G1/2"	G1/2"
冷却方法		空気/水	空気/水	水	水	水	水	水	水	水	水	水	水	水	水
ノイズ		デシベル	75	75	75	76	76	78	78	78	80	80	85	85	85
重さ		Kg	310	310	475	570	840	840	1200	1220	1250	1300	1350	1380	1400
特別な要件		要件に応じて、可変周波数、耐腐食性、防爆性などを設定できます。

半導体製造:

CVD、PVD、イオン注入、エッチングなどの半導体製造プロセスでは、水冷式ドライスクリュー真空ポンプが必要な真空レベルを維持しながら、効率的な熱放散を実現し、一貫したパフォーマンスを確保します。

薄膜堆積:

水冷式ドライスクリューポンプは、スパッタリングや蒸発などの薄膜堆積技術で使用され、基板上に均一な薄膜を堆積するには、正確な真空制御と熱管理が不可欠です。

熱処理プロセス:

冶金や航空宇宙などの熱処理プロセスに関わる業界では、システムを冷却したままアニーリング、ろう付け、その他の高温処理のための真空環境を作り出すために、水冷式ドライスクリュー真空ポンプを利用しています。

化学および医薬品処理:

水冷式ドライスクリューポンプは、反応、蒸留、溶媒回収プロセスでクリーンなドライ真空を維持することが必要な化学処理アプリケーションで重要な役割を果たします。

研究開発:

さまざまな業界の研究所や研究施設では、テストや実験に水冷式ドライスクリュー真空ポンプを使用しており、材料、プロセス、機器の研究に信頼性の高い真空状態を提供しています。

ドライベーン真空ポンプ